Contouring using two-wavelength electronic speckle pattern interferometry employing dual-beam illuminations

Hongyan Diao, Xiang Peng, Yunlu Zou, Hans J. Tiziani & L. Chen
Es wird eine neue Konturing-Methode mit einer elektronischen Zweiwellenlängen-Speckle-Interferometrie (TWESPI) vorgeschlagen, bei der zwei Beleuchtungsstrahlen verwendet werden. Die optisch rauhe Oberfläche wird bei einer synthetischen längeren equivalenten Wellenlänge vermessen, so daß durch die Änderung der Wellenlängen eine variable Meßempfindlichkeit erhalten werden kann. Dadurch erweitert diese Technik den Meßbereich der Einwellen-Speckle-Interferometrie und erlaubt die Messung von Konturen steiler Profile als bisher mit der Einwellenlängen-Methode möglich war.
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